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Halogenfreies Lösungsmittel HFO-1233zd(Z) - Halogenfreies, nachhaltiges und regulatorisch konformes HCFC-141B-Ersatzprodukt für die Präzisionsreinigung in der Halbleiterindustrie und für vielseitige industrielle Reinigungsanwendungen

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Organische Chemie-Lösungsmittel

Beschichtende Zusätze

Elektronische Grad-Chemikalien

UV-Photoinitiator

PPG-Polypropylen-Glykol

Pharmazeutische Vermittler

Polyäther-Amin

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Chemisches Pigment

Chemischer Farbstoff

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Halogenfreies Lösungsmittel HFO-1233zd(Z) - Halogenfreies, nachhaltiges und regulatorisch konformes HCFC-141B-Ersatzprodukt für die Präzisionsreinigung in der Halbleiterindustrie und für vielseitige industrielle Reinigungsanwendungen

Markenbezeichnung:	Chemfine
Modellnummer:	HFO-1233zd
MOQ:	1000 kg
Zahlungsbedingungen:	L/C, T/T

Ausführliche Information

Produkt-Beschreibung

Ausführliche Information

Herkunftsort:

China

Hervorheben:

Präzisionsreinigung in Halbleiterqualität HFO-1233zd(Z)

Nachhaltiger und gesetzeskonformer HCFC-141B-Ersatz

Vielseitige industrielle Reinigungslösung Halbleiterreiniger

Produkt-Beschreibung

Ersatz des Halbleiterreinigungsmittels

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 Ersatz HCFCs Cas 99728-16-2

Verkaufspunkte der Produkte

Idealer Ersatz für HCFC-141B:Unser HFO-1233zd(Z bietet eine gleichwertige Reinigungsleistung wie HCFC-141B mit einem überlegenen Umweltprofil, was ihn zum perfekten Ersatz für bestehende Reinigungsprozesse macht.
Präzisionsreinigung für Halbleiter:Unser CAS 99728-16-2 ist mit hoher Reinheit und kontrolliertem Verunreinigungsgrad speziell für die Reinigung von Halbleiterwafern, das Entfernen von Photoresisten und die Präzisionsreinigung elektronischer Komponenten konzipiert.
Nachhaltig und gesetzlich konform:Null Potenzial für die Zerstörung der Ozonschicht und ein extrem geringes Erderwärmungspotenzial, vollständig im Einklang mit dem Montrealer Protokoll, den EU-F-Gas-Vorschriften und dem US-EPA-Programm SNAP.
Vielseitige industrielle Reinigungslösung:Geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Metallentfetterung, Luftfahrtkomponentenreinigung, Dampfentfetterung und Lösungsmittelreinigungssysteme.
Sicher und leicht zu handhaben:Nicht-entflammbar, wenig toxisch, kompatibel mit den häufigsten Materialien, die in industriellen Reinigungsgeräten verwendet werden, reduziert Betriebsrisiken und vereinfacht die Prozessintegration.

Produkteinführung

HFO-1233zd(Z), auch bekannt als Cis-1-Chlor-3,3,3-Trifluorpropen, mit CAS-Nummer 99728-16-2. Es handelt sich um ein umweltfreundliches Hydrofluoroolefin (HFO) -Lösungsmittel der nächsten Generation, das speziell als Hochleistungsersatz für HCFC-141B entwickelt wurde,HFO-1336mz, FS-39 und andere ozonschädliche HCFC und fluorhaltige Lösungsmittel mit hohem GWP.

Mit einem Null-Ozonabbau-Potenzial (ODP), einem ultra-niedrigen Erderwärmungspotenzial (GWP) und einer hervorragenden SolvabilitätsleistungHFO-1233zd(Z) ist zum bevorzugten Reinigungsmittel für die Halbleiter- und Elektronikindustrie gewordenEs wird weit verbreitet in der Präzisionsreinigung, Dampfentfettung, Photoresist-Rückstandsentfernung und anderen kritischen industriellen Reinigungsprozessen eingesetzt.Bereitstellung einer zuverlässigen Reinigungsleistung und gleichzeitig Unterstützung der Hersteller bei der Einhaltung der weltweiten Umweltvorschriften.

Detaillierte Anwendungen

Halbleiter- und Elektronikindustrie

Primär für die Präzisionsreinigung von Halbleiterwafern, zur Entfernung von photoresistenten Rückständen, organischen Verunreinigungen und Feinstaubpartikeln aus Wafern und elektronischen Bauteilen;Ideal für Reinigungsprozesse in Reinräumen.

Abfettung durch industrielle Dämpfe

Verwendet in Dampf-Entfettungssystemen für Metall-, Kunststoff- und Keramikbauteile, um Öle, Fette, Flussrückstände und Bearbeitungsflüssigkeiten effektiv zu entfernen.

Luft- und Raumfahrt und Präzisionstechnik

Für die Reinigung hochpräziser Luftfahrtkomponenten, optischer Teile und medizinischer Geräte, wobei Nullrückstände und hohe Reinheitsstandards gewährleistet werden.

Kühl- und Schaumbläserhilfsmittel

Auch als Blasmittel mit niedrigem GWP für Polyurethanschaumstoffe und als Bestandteil von Kühlmittelmischungen mit niedrigem GWP verwendet.

Allgemeine industrielle Reinigung

Geeignet für schwere Entfettung, Reinigung von Leiterplatten und andere industrielle Reinigungsanwendungen, die eine hohe Solvabilität und Umweltkonformität erfordern.

Grundlegende Eigenschaften

Eigentum	Wert/Beschreibung
CAS-Nummer	99728-16-2
Chemische Bezeichnung	Cis-1-Chlor-33,3-Trifluorpropen (HFO-1233zd(Z))
Molekulare Formel	(Z) -CF3CH=CHCl
Molekülgewicht	130.5 g/mol
Siedepunkt (1 atm)	390,0 °C
Schmelzpunkt	-101,0 °C
Flüssigkeitsdichte (20°C, 760 mmHg)	1.312±0,06 g/cm3
Viskosität bei 25°C	00,37 mPa·s
Dampfdruck bei 20°C	49 kPa
Wasserlöslichkeit	950 ppm
Flash Point. Das ist Flash Point.	Keine
KB-Wert	34

Technische Spezifikation

Artikel 1 Buchstabe a	Spezifikation	Standardergebnis
Reinheit (Wt%)	≥ 99,8	≥ 99,8
Feuchtigkeit (Wt%)	≤ 0002	≤ 0002
Säuregehalt (in HCl, Wt%)	≤ 00001	≤ 00001
Verdunstungsrückstand (Wt%)	≤ 001	≤ 001
Chloridprüfung	Pass	Pass

Spezialisierte Anwendungen

Halbleiterwaferreinigung

Unser HFO-1233zd(Z) ist speziell für die strengen Anforderungen der Halbleiterherstellung entwickelt, um photoresistente Rückstände effektiv zu entfernen,organische Verunreinigungen und Submikronpartikel aus Siliziumwafern, ohne die empfindlichen Strukturen der Wafer zu beschädigenSeine ultra-hohe Reinheit sorgt für keine Kontamination, was ihn ideal für die fortgeschrittene Knoten-Halbleiterproduktion macht.

Präzisionsdampfentfettung

Mit einem geeigneten Siedepunkt und einer hervorragenden Löslichkeit eignet sich HFO-1233zd(Z) hervorragend für Dampfentfettsystemen, die eine schnelle, restlose Reinigung von Metall,Kunststoff- und Keramikbauteile für die Automobilindustrie, Luft- und Raumfahrtindustrie und Elektronikindustrie. Sein nicht brennbarer Charakter sorgt für einen sicheren Betrieb in Hochtemperatur-Entfettungsanlagen.

HCFC-141B und Lösungsmittelersatz mit hohem GWP

als Ersatz für HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 und andere fluorhaltige Lösungsmittel mit hohem GWP,Unsere HFO-1233zd(Z hält eine gleichwertige Reinigungsleistung bei, wobei das Risiko der Ozonverschmutzung beseitigt und der CO2-Fußabdruck reduziert wird, die den Herstellern einen reibungslosen Übergang zu umweltfreundlichen Reinigungsprozessen ohne kostspielige Anpassungen der Ausrüstung ermöglichen.

Verpackung und Logistik

Standardverpackung:25 kg UN-zugelassene Stahlfässer, 250 kg Stahlfässer oder 1000 kg IBC-Taschen.

AufbewahrungIn einem kühlen, trockenen, gut belüfteten Lager aufbewahren.

Sicherheitsklasse:Nicht brennbare, wenig toxische Chemikalien, die den internationalen Transportvorschriften für gefährliche Güter entsprechen.

Synonyme

Cis-1-Chlor-33,3-Trifluorpropen; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Ersatz; CAS 99728-16-2

Häufig gestellte Fragen

F: Ist HFO-1233zd(Z) ein direkter Ersatz für HCFC-141B?

A: Ja, HFO-1233zd(Z) weist eine ähnliche Solvenz, einen ähnlichen Siedepunkt und eine ähnliche Materialkompatibilität wie HCFC-141B auf und ist somit ein nahezu vollständiger Ersatz für die meisten bestehenden Reinigungs- und Entfettungsverfahren.mit minimalen oder keinerlei Ausrüstungsänderungen.

F: Welches ist das Umweltprofil von HFO-1233zd(Z)?

A: HFO-1233zd(Z) hat ein Null-Ozonabbau-Potenzial (ODP) und ein extrem geringes Erderwärmungspotenzial (GWP) von weniger als 1, wodurch es vollständig mit dem Montrealer Protokoll übereinstimmt,EU-F-Gas-Verordnungen und US-EPA-SNAP-Programm für die Verwendung als Reinigungslösungsmittel.

F: Ist HFO-1233zd(Z) brennbar?

A: Nein, HFO-1233zd(Z) hat keinen Blitzpunkt und ist somit unter normalen Betriebsbedingungen nicht entzündbar, was die Brandgefahr in Industrie-Reinigungs- und Fertigungsanlagen erheblich verringert.

F: Welche Reinheitsgrade von HFO-1233zd(Z) bieten Sie an?

A: Wir bieten Standard-Industriequalität (Reinheit ≥99,5%) und Elektronik-/Halbleiterqualität (Reinheit ≥99,8%) HFO-1233zd(Z), mit strenger Feuchtigkeitskontrolle,Säuregehalt und Restverunreinigungen für verschiedene Anwendungen.

Umbauten:

4746-97-8

2 4 6-Tri- (6-aminocaproic Säure) - 1 Triazin 3 5

Farbenmodifizierer cas 80584-91-4

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Beschichtende Zusätze

Elektronische Grad-Chemikalien

UV-Photoinitiator

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Polyäther-Amin

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Chemisches Pigment

Chemischer Farbstoff

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Halogenfreies Lösungsmittel HFO-1233zd(Z) - Halogenfreies, nachhaltiges und regulatorisch konformes HCFC-141B-Ersatzprodukt für die Präzisionsreinigung in der Halbleiterindustrie und für vielseitige industrielle Reinigungsanwendungen

Markenbezeichnung:	Chemfine
Modellnummer:	HFO-1233zd
MOQ:	1000 kg
Zahlungsbedingungen:	L/C, T/T

Ausführliche Information

Produkt-Beschreibung

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Herkunftsort:

China

Markenname:

Chemfine

Modellnummer:

HFO-1233zd

Min Bestellmenge:

1000 kg

Zahlungsbedingungen:

L/C, T/T

Hervorheben:

Präzisionsreinigung in Halbleiterqualität HFO-1233zd(Z)

Nachhaltiger und gesetzeskonformer HCFC-141B-Ersatz

Vielseitige industrielle Reinigungslösung Halbleiterreiniger

Produkt-Beschreibung

Ersatz des Halbleiterreinigungsmittels

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 Ersatz HCFCs Cas 99728-16-2

Verkaufspunkte der Produkte

Idealer Ersatz für HCFC-141B:Unser HFO-1233zd(Z bietet eine gleichwertige Reinigungsleistung wie HCFC-141B mit einem überlegenen Umweltprofil, was ihn zum perfekten Ersatz für bestehende Reinigungsprozesse macht.
Präzisionsreinigung für Halbleiter:Unser CAS 99728-16-2 ist mit hoher Reinheit und kontrolliertem Verunreinigungsgrad speziell für die Reinigung von Halbleiterwafern, das Entfernen von Photoresisten und die Präzisionsreinigung elektronischer Komponenten konzipiert.
Nachhaltig und gesetzlich konform:Null Potenzial für die Zerstörung der Ozonschicht und ein extrem geringes Erderwärmungspotenzial, vollständig im Einklang mit dem Montrealer Protokoll, den EU-F-Gas-Vorschriften und dem US-EPA-Programm SNAP.
Vielseitige industrielle Reinigungslösung:Geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Metallentfetterung, Luftfahrtkomponentenreinigung, Dampfentfetterung und Lösungsmittelreinigungssysteme.
Sicher und leicht zu handhaben:Nicht-entflammbar, wenig toxisch, kompatibel mit den häufigsten Materialien, die in industriellen Reinigungsgeräten verwendet werden, reduziert Betriebsrisiken und vereinfacht die Prozessintegration.

Produkteinführung

Detaillierte Anwendungen

Halbleiter- und Elektronikindustrie

Abfettung durch industrielle Dämpfe

Verwendet in Dampf-Entfettungssystemen für Metall-, Kunststoff- und Keramikbauteile, um Öle, Fette, Flussrückstände und Bearbeitungsflüssigkeiten effektiv zu entfernen.

Luft- und Raumfahrt und Präzisionstechnik

Für die Reinigung hochpräziser Luftfahrtkomponenten, optischer Teile und medizinischer Geräte, wobei Nullrückstände und hohe Reinheitsstandards gewährleistet werden.

Kühl- und Schaumbläserhilfsmittel

Auch als Blasmittel mit niedrigem GWP für Polyurethanschaumstoffe und als Bestandteil von Kühlmittelmischungen mit niedrigem GWP verwendet.

Allgemeine industrielle Reinigung

Geeignet für schwere Entfettung, Reinigung von Leiterplatten und andere industrielle Reinigungsanwendungen, die eine hohe Solvabilität und Umweltkonformität erfordern.

Grundlegende Eigenschaften

Eigentum	Wert/Beschreibung
CAS-Nummer	99728-16-2
Chemische Bezeichnung	Cis-1-Chlor-33,3-Trifluorpropen (HFO-1233zd(Z))
Molekulare Formel	(Z) -CF3CH=CHCl
Molekülgewicht	130.5 g/mol
Siedepunkt (1 atm)	390,0 °C
Schmelzpunkt	-101,0 °C
Flüssigkeitsdichte (20°C, 760 mmHg)	1.312±0,06 g/cm3
Viskosität bei 25°C	00,37 mPa·s
Dampfdruck bei 20°C	49 kPa
Wasserlöslichkeit	950 ppm
Flash Point. Das ist Flash Point.	Keine
KB-Wert	34

Technische Spezifikation

Artikel 1 Buchstabe a	Spezifikation	Standardergebnis
Reinheit (Wt%)	≥ 99,8	≥ 99,8
Feuchtigkeit (Wt%)	≤ 0002	≤ 0002
Säuregehalt (in HCl, Wt%)	≤ 00001	≤ 00001
Verdunstungsrückstand (Wt%)	≤ 001	≤ 001
Chloridprüfung	Pass	Pass

Spezialisierte Anwendungen

Halbleiterwaferreinigung

Präzisionsdampfentfettung

HCFC-141B und Lösungsmittelersatz mit hohem GWP

Verpackung und Logistik

Standardverpackung:25 kg UN-zugelassene Stahlfässer, 250 kg Stahlfässer oder 1000 kg IBC-Taschen.

AufbewahrungIn einem kühlen, trockenen, gut belüfteten Lager aufbewahren.

Sicherheitsklasse:Nicht brennbare, wenig toxische Chemikalien, die den internationalen Transportvorschriften für gefährliche Güter entsprechen.

Synonyme

Cis-1-Chlor-33,3-Trifluorpropen; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Ersatz; CAS 99728-16-2

Häufig gestellte Fragen

F: Ist HFO-1233zd(Z) ein direkter Ersatz für HCFC-141B?

F: Welches ist das Umweltprofil von HFO-1233zd(Z)?

F: Ist HFO-1233zd(Z) brennbar?

F: Welche Reinheitsgrade von HFO-1233zd(Z) bieten Sie an?

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